首页 > 业务指南 > 科 技
驻芝加哥总领事黄屏出席旅美科学家工程师专业人士协会年会暨绿色奥运研讨会
2008-10-21 00:06

  日前,黄屏总领事应邀出席旅美科学家工程师专业人士协会第十六届年会暨2008年“绿色奥运与绿色资源可持续发展”研讨会并发表演讲。

  黄屏代表驻芝加哥总领馆对科工专协会第十六届年会暨“绿色奥运与绿色资源可持续发展”研讨会的顺利召开表示热烈的祝贺并预祝会议圆满成功。黄屏指出,2008年是极其不平凡的一年,也是非常有意义的一年,全国人民齐心协力在夺取战胜两场特大自然灾害伟大胜利的同时,成功举办了充分体现“人文奥运、科技奥运、绿色奥运”的2008北京奥运和北京残奥会,实现中国人民的百年奥运的梦想。他特别感谢科工专全体成员、中西部地区的广大侨胞对灾区人民的慷慨支援,对北京奥运的长期关心和支持。演讲中黄屏还专门介绍了我国中长期科技发展规划(2006-2020)和建设创新型国家的主要目标和内容以及中美签署能源环境十年合作框架协议等,强调指出,中美在科技经济等领域的合作不断扩大,稳定的建设性的中美关系也为中美合作创造了良好的条件,希望大家积极参与,通过广泛的科技经济合作为维护和促进中美关系的健康稳定发展做出更大的贡献。

  储茂明副总领事、科技组刘俊参赞等参加上述活动。

推荐给朋友
  打印本稿
中华人民共和国驻芝加哥总领事馆 2007 版权所有 webmaster@chinaconsulatela.org
Tel:312-6425981 京ICP备06038296号 京公网安备110105002097